当社グループは、当社、連結子会社８社及び関連会社２社により構成されており、光学薄膜装置の製造・販売を主要な事業としております。光学薄膜とは、スマートフォンやレンズ等の各種光学部品にコーティングを施し、コーティングの材料により異なる機能(例：反射防止、赤外線カット等)を持たせることをいいます。
具体的には、スマートフォンやタブレット等のタッチパネルや筐体、生体認証センサ、カメラモジュール、LED光源、車載カメラ、監視カメラ等に用いられています。
顧客は光学薄膜成膜メーカーや、光学薄膜を用いる最終製品メーカーであり、当社は装置販売を行うと共に、多様な顧客ニーズに対応し、成膜プロセスに関するアドバイスを行い、光学薄膜成膜技術ノウハウを活用した成膜ソリューション提供を特徴としております。
なお、当社グループの事業は、成膜装置事業の単一セグメントであります。
(代表的な成膜対象となる最終製品) 代表的な成膜対象となる最終製品 当社成膜装置で蒸着する成膜の主な機能 スマートフォン 筐体裏面へのカラー加飾膜筐体表面の生体認証部分への反射防止膜・N-IRフィルタタッチパネルへの反射防止膜、防汚膜、ITO膜、傷防止膜カメラモジュールへの反射防止膜、IRカットフィルタ LED LEDチップへのITO膜、増反射膜、窒化アルミ膜、DBR膜、TCO膜 生体認証 生体認証センサへの反射防止膜、N-IRフィルタ等の成膜(指紋・虹彩・網膜・顔・音声等による認証方法として、セキュリティシステム・PCログイン・スマートフォンログイン・病院/銀行/出入国管理システムの本人確認に活用) 自動車 車載カメラへの反射防止膜、防汚膜、IRカットフィルタインストルメントパネルへの反射防止膜、防汚膜センサへの加飾膜、バンドパスフィルタヘッドアップディスプレイへの増反射膜、コールドミラー、ハーフミラー膜 AR/VR ヘッドアップ・ヘッドマウントディスプレイへのIRカットフィルタ、防汚膜、硬質膜、ハーフミラー膜、ダイクロックミラー(波長分離フィルタ) 光学・センシング関連半導体 光学・センシング関連半導体生産の後工程における、半導体デバイス上での、反射防止膜やバンドパスフィルタ成膜 光通信機器 DWDM(高密度波長分割多重)モジュールへのバンドパスフィルタ光ファイバ、光学部品への反射防止膜 デジタルカメラ・監視カメラ カメラレンズへの反射防止膜、IRカットフィルタ (主要製品) 製品名(型式) 薄膜形式 膜性能及び主な用途 光学薄膜形成装置(OTFCシリーズ) イオンビームアシスト蒸着方式 膜 性 能：IRカットフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング主な用途：スマートフォン、車載カメラ、監視カメラ、デジタルカメラ、プロジェクター等各種光学部品 防汚膜成膜装置(Gener-2350) イオンビームアシスト蒸着方式 膜 性 能：防汚膜、反射防止膜主な用途：スマートフォンタッチパネル 反応性プラズマ成膜装置(RPDシリーズ(ITO/AlN)) 反応性プラズマ方式 膜 性 能：高性能なLED機能成膜主な用途：LED照明、LED光源 光学膜用スパッタ成膜装置(NSC-15) スパッタリング方式 膜 性 能：反射防止膜、IRカットフィルタ、帯域フィルタ主な用途：スマートフォン、タッチパネル(ハード反射防止膜)、筐体(カラー加飾膜)、カメラモジュール(ハード反射防止膜、IRカットフィルタ)、生体認証(N-IRフィルタ) 半導体光学膜用スパッタ成膜装置(OWLS-1800) スパッタリング方式 膜 性 能：反射防止膜、IRカットフィルタ、帯域フィルタ主な用途：半導体ウェハー、スマートフォン、カメラモジュール(ハード反射防止膜、IRカットフィルタ)、生体認証(N-IRフィルタ) プラズマ原子層堆積装置(ALDER) 原子層堆積(ALD)方式 膜 性 能：反射防止膜、保護膜主な用途：スマートフォンカメラモジュール(反射防止膜)、リチウムイオン電池、ミニLED、マイクロLED 超多層薄膜形成装置(SPOC-1100T) イオンビームアシスト蒸着方式 膜 性 能：狭帯域フィルタ主な用途：光通信用機器 (用語集)１．IR(Infrared)カットフィルタとは、デジタル画像の特徴である赤外(赤色発生)部分をカットし、より人間の目と同じ色彩を映し出すために必要な光学フィルタです。
２．帯域フィルタとは、特定の波長の光だけを透過又は反射させるフィルタです。IRカットフィルタも帯域フィルタに該当します。３．AR(Anti-Reflection: 反射防止)コーティングとは、ガラス表面からの反射を低減させるコーティングのことです。
透明なガラスとはいえ、光を照射すると約４％の光がガラス表面で反射します。光が入る表面、抜けていく裏面とそれぞれ約４％ずつ反射するため、ガラスを透過する光は約92％まで下がってしまいます。この光の減衰を減らすために、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互に重ねたコーティングを施しています。
４．N‐IR(Near-Infrared)フィルタとは、近赤外光を透過するフィルタです。５．ITO(Indium Tin Oxide)膜とは、酸化インジウムスズを材料とした透明かつ導電性を有する膜です。
６．DBR膜とは、Distributed Bragg Reflectorのことであり、ある特定波長の光を効率良く反射するよう、一定の周期で屈折率が変化するような構造を持った反射膜をいいます。
７．TCO膜とは、Transparent Conductive Oxideのことであり、透明かつ導電性を有する膜をいいます。８．原子層堆積方式とは、真空を応用した成膜技術であり、原子の性質である自己制御性を利用して、一層ずつ原子を堆積させる成膜方法をいいます。
［事業系統図］事業系統図は以下のとおりであります。(1) 仕入当社及び製造子会社は国内外の仕入先より部品・原材料を仕入れております。重要部品は当社が国内仕入先より仕入を行い、製造子会社へ供給しております。(2) 生産当社は国内外の顧客から受注し、製造子会社において生産しております。
(3) 販売当社は製造子会社で生産した成膜装置を仕入れ、国内外の顧客に販売及び保守サービスを提供しております。一部成膜装置については、製造子会社及び販売子会社で販売し、製造子会社で保守サービスを提供しております。持分法適用会社において、製品・部品販売、薄膜加工サービスを提供しております。
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※ EDINET（金融庁 電子開示システム）の有価証券報告書をもとに作成
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※ EDINET（金融庁 電子開示システム）の有価証券報告書・四半期報告書をもとに作成
| 指標 | 2017年 | 2018年 | 2019年 | 2020年 | 2021年 | 2022年 | 2023年 | 2024年 | 2025年 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 損益 | |||||||||
| 売上高企業の本業での収入の合計 | 334億 | 448億 ↑34.1% | 428億 ↓4.3% | 375億 ↓12.4% | 309億 ↓17.6% | 343億 ↑11.0% | 368億 ↑7.3% | 324億 ↓12.0% | 339億 ↑4.5% |
| 営業利益本業で稼いだ利益。売上高から原価と販管費を引いたもの | 73億 | 107億 ↑45.9% | 109億 ↑1.8% | 86億 ↓20.7% | 70億 ↓18.6% | 74億 ↑6.0% | 98億 ↑30.9% | 66億 ↓32.6% | 33億 ↓49.2% |
| 経常利益営業利益に金融収支等を加えた、通常の事業活動による利益 | 71億 | 110億 ↑54.9% | 110億 ↑0.3% | 86億 ↓21.9% | 79億 ↓8.2% | 88億 ↑10.9% | 61億 ↓30.9% | 82億 ↑35.4% | 32億 ↓60.9% |
| 純利益税金や特別損益を差し引いた最終的な利益。株主に帰属する利益 | 48億 | 77億 ↑60.8% | 91億 ↑17.5% | 68億 ↓25.2% | 63億 ↓6.9% | 69億 ↑8.8% | 47億 ↓32.2% | 64億 ↑36.5% | 28億 ↓55.4% |
| 収益性 | |||||||||
| EPS1株あたり純利益。純利益÷発行済株式数で算出。高いほど収益力が高い | 134.6円 | 187.6円 ↑39.4% | 216.7円 ↑15.5% | 159.1円 ↓26.6% | 146.8円 ↓7.7% | 159.0円 ↑8.3% | 106.1円 ↓33.2% | 145.3円 ↑36.9% | 73.3円 ↓49.6% |
| ROE自己資本利益率。株主の出資金でどれだけ利益を生んだかの指標。8%以上が目安 | 29.00% | 30.60% ↑5.5% | 29.00% ↓5.2% | 18.30% ↓36.9% | 14.80% ↓19.1% | 14.00% ↓5.4% | 8.50% ↓39.3% | 11.00% ↑29.4% | 5.10% ↓53.6% |
| ROA総資産利益率。全資産を使ってどれだけ利益を出したかの指標。5%以上が目安 | 8.54% | 13.86% ↑62.3% | 16.11% ↑16.2% | 12.52% ↓22.3% | 9.79% ↓21.8% | 8.31% ↓15.1% | 5.95% ↓28.4% | 7.83% ↑31.6% | 3.30% ↓57.9% |
| 営業利益率売上高に対する営業利益の割合。本業の収益力を示し、10%以上なら優良 | 21.95% | 23.88% ↑8.8% | 25.41% ↑6.4% | 23.01% ↓9.4% | 22.74% ↓1.2% | 21.71% ↓4.5% | 26.49% ↑22.0% | 20.28% ↓23.4% | 9.85% ↓51.4% |
| キャッシュフロー | |||||||||
| 営業CF本業から実際に入ってきた現金。プラスが大きいほど稼ぐ力が強い | 47億 | 96億 ↑103.8% | 162億 ↑69.6% | -5億 ↓103.3% | 107億 ↑2095.9% | 86億 ↓19.9% | 32億 ↓62.8% | 50億 ↑58.8% | 85億 ↑68.9% |
| 投資CF設備投資や企業買収等に使った現金。成長企業は通常マイナスが大きい | -28億 | -30億 ↓7.1% | -24億 ↑18.0% | -10億 ↑56.9% | 4億 ↑135.9% | -44億 ↓1270.4% | -36億 ↑18.1% | -77億 ↓114.0% | 3億 ↑103.3% |
| 財務CF借入・返済・配当金支払い等による現金の動き | 124億 | -101億 ↓180.8% | -24億 ↑76.5% | -25億 ↓4.6% | -27億 ↓10.9% | -22億 ↑20.6% | -22億 ↓1.6% | -38億 ↓72.5% | -63億 ↓64.4% |
| フリーCF企業が自由に使えるお金。営業CF＋投資CFで算出。配当や成長投資の原資 | 19億 | 66億 ↑242.8% | 138億 ↑108.9% | -16億 ↓111.5% | 111億 ↑798.8% | 42億 ↓62.3% | -4億 ↓110.1% | -27億 ↓532.9% | 88億 ↑431.4% |
| 財務 | |||||||||
| 総資産企業が保有する全ての資産（現金・設備・投資等）の合計 | 564億 | 559億 ↓0.9% | 565億 ↑1.1% | 543億 ↓3.9% | 647億 ↑19.0% | 829億 ↑28.2% | 785億 ↓5.3% | 814億 ↑3.8% | 861億 ↑5.8% |
| 自己資本返済不要な資本。株主からの出資金と利益の蓄積で構成される | 221億 | 284億 ↑28.5% | 356億 ↑25.4% | 402億 ↑12.9% | 440億 ↑9.5% | 490億 ↑11.2% | 511億 ↑4.5% | 500億 ↓2.3% | 463億 ↓7.4% |
| 自己資本比率総資産に占める自己資本の割合。高いほど財務が安定。40%以上が目安 | 40.00% | 50.20% ↑25.5% | 61.60% ↑22.7% | 72.70% ↑18.0% | 71.20% ↓2.1% | 62.90% ↓11.7% | 71.70% ↑14.0% | 72.10% ↑0.6% | 66.60% ↓7.6% |
| 配当 | |||||||||
| 一株配当1株あたりの年間配当金額。株主への利益還元額 | 40.0円 | 55.0円 ↑37.5% | 60.0円 ↑9.1% | 50.0円 ↓16.7% | 50.0円 ↑0.0% | 50.0円 ↑0.0% | 50.0円 ↑0.0% | 52.0円 ↑4.0% | 54.0円 ↑3.8% |
| 配当性向純利益のうち配当に回す割合。30〜50%が健全な目安。高すぎると持続性に懸念 | 29.73% | 29.31% ↓1.4% | 27.69% ↓5.5% | 31.44% ↑13.5% | 34.05% ↑8.3% | 31.44% ↓7.7% | 47.11% ↑49.8% | 35.79% ↓24.0% | 73.67% ↑105.8% |
※ EDINET（金融庁 電子開示システム）の有価証券報告書をもとに作成
※ EDINET（金融庁 電子開示システム）の有価証券報告書をもとに作成
総合スコアは5軸（安定性・成長性・配当力・割安度・財務健全性）をそれぞれ100点満点で評価し、加重平均で算出します。
※ 各軸100点満点。データ不足の場合は該当項目が0点になります。